鉬（10%）鈮合金濺射靶材在薄膜太陽(yáng)電池和顯示器中具有廣闊的應(yīng)用前景。但是，由于鈮粉體在燒結(jié)過(guò)程中對(duì)氧的吸收，導(dǎo)致燒結(jié)后的鉬鈮坯體含氧量高、密度低。本次在CH4氣氛下通過(guò)化學(xué)氣相反應(yīng)制備了鈮碳包覆層的鈮粉末。鈮碳層不僅有助于阻止氧的吸收，而且可以在所需溫度下與氧反應(yīng)完全消耗掉。研究了制備方法、反應(yīng)介質(zhì)和反應(yīng)參數(shù)對(duì)鈮碳層性能的影響，確定了佳工藝條件為：溫度600℃，反應(yīng)時(shí)間270min，氣壓0.04mpa。用掃描電子顯微鏡、X射線光電子能譜、電子探針顯微分析、拉曼光譜和原子力顯微鏡對(duì)鍍層的表面形貌、化學(xué)成分、分布和均勻性進(jìn)行了表征。用ONH和CS分析儀測(cè)定了氧和碳的含量。將表面改性鈮粉與鉬粉混合，真空燒結(jié)，得到含氧量190ppm，碳含量290ppm，相對(duì)密度93%的Mo-10%Nb坯料。該坯料的質(zhì)量明顯優(yōu)于用非表面改性鈮粉制備的坯料。
鈮靶材的用途
作為鈮及其合金膜的關(guān)鍵成分，鈮濺射靶材用于彩色TFT LCD平板電腦，光學(xué)透鏡，電子成像，信息存儲(chǔ)，太陽(yáng)能電池，玻璃涂層以及在耐腐蝕環(huán)境中，例如運(yùn)輸和化工生產(chǎn)領(lǐng)域。
如今，鈮濺射靶材主要應(yīng)用于先進(jìn)的觸摸屏，平板顯示器和節(jié)能玻璃的表面涂層。在玻璃屏幕上具有防反射作用。
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